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干燥箱/烘箱產品及廠家

無氧烘箱,20ppm無氧烘箱
無氧烘箱,20ppm無氧烘箱應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求,形成高溫、低氧(無氧)、潔凈環境,特別適合半導體制造、cob封裝、ic封裝、石英玻璃、醫療衛生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業的無氧化干燥烘烤工藝要求.
更新時間:2025-05-07
充氮厭氧烘箱,450度厭氧固化爐
充氮厭氧烘箱,450度厭氧固化爐應用于精密電子元件、聚酰亞胺層(pi)固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求,模擬線性升降溫環境,特別適合半導體制造、mems制作、工藝cob封裝、醫療衛生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業的無氧化干燥烘烤工藝要求。
更新時間:2025-05-07
充氮真空烘箱,快速降溫真空烤箱
充氮真空烘箱,快速降溫真空烤箱用于鍵合材料的真空預處理 、bcb固化、ito膜退火,pi膠固化等工藝。廣泛應用于半導體、電子產品、醫療衛生等行業,適用于工廠、高等院校、科研等場所。
更新時間:2025-05-07
有降溫功能真空烘箱,300度可降溫真空烤箱
有降溫功能真空烘箱,300度可降溫真空烤箱用于鍵合預處理,晶圓,芯片,電容,電池,封裝,光刻膠固化,pi固化等
更新時間:2025-05-07
HMDS黏附機  光刻膠HMDS烘箱  HMDS疏水處理烘箱
hmds黏附機 光刻膠hmds烘箱 hmds疏水處理烘箱應用多晶硅,石英,太陽能電池片、金屬、貴金屬、藍寶石、sic(碳化硅)、磷化銦、gan(氮化鎵)、zno(氧化鋅)、gao(氧化鎵)、金剛石等第三代半導體材料。
更新時間:2025-05-07
HMDS烘箱  圖像反轉系統 六甲基二硅氮烷涂膠機
hmds烘箱 圖像反轉系統 六甲基二硅氮烷涂膠機使用hmds(六甲基二硅氮烷)對晶圓表面進行快速、均勻、經濟高效的涂布,以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統還支持圖像反轉,形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負圖像。
更新時間:2025-05-07
HDMS烘箱  HDMS真空烘箱  智能型HDMS預處理烘箱
hdms烘箱 hdms真空烘箱 智能型hdms預處理烘箱保護裝置:緊急停止,hmds藥液泄漏報&警提示,hmds低液位報&警,超溫保護,漏電保護,過熱保護等
更新時間:2025-05-07
程控真空干燥箱 可程式真空烘箱 真空烤箱
程控真空干燥箱 可程式真空烘箱 真空烤箱在實驗室、制藥、電子等行業,干燥工藝的效率與精度直接影響實驗結果與產品質量。
更新時間:2025-05-07
紫外固化烘箱 真空紫外烘箱 UV固化真空烤箱
紫外固化烘箱 真空紫外烘箱 uv固化真空烤箱主要應用于uv膠水、uv 油墨、uv光油、uv 油漆、uv 涂料、薄膜等 uv 光感材料的固化,3d打印固化,新型材料改性、高分子化學、半導體材料光固化,以及高等院校和科研機構的實驗室研究。
更新時間:2025-05-07
潔凈無氧烤箱 充氮潔凈烤箱 高溫固化烤箱
潔凈無氧烤箱 充氮潔凈烤箱 高溫固化烤箱支持mes等自動化通信端口, 內置計時報警功能, 氧含量實時監測(氧化鋯分析儀
更新時間:2025-05-07
高溫低濕烘箱   超低濕高溫烤箱
高溫低濕烘箱 超低濕高溫烤箱應用場景?:led燈珠、ic芯片等濕敏元器件需在40~90℃、濕度≤5%rh的烘箱中預烘烤,避免回流焊時出現“爆米花”效應?
更新時間:2025-05-07
NH3氨氣烘箱 氨氣真空烘烤系統 氨氣圖形反轉爐
nh3氨氣烘箱 氨氣真空烘烤系統 氨氣圖形反轉爐使得光刻膠在半導體、光學器件及生物芯片等制造領域能夠更地適應圖形轉移的需求,提升產品的制造質量和精度。
更新時間:2025-05-07
PETG/IPN/TPU膜材料烘箱  牙膠片防氧化烘箱 隱形正畸膜熱處理烤箱
petg/ipn/tpu膜材料烘箱 牙膠片防氧化烘箱 隱形正畸膜熱處理烤箱牙科膜片是一種常用的牙種材料,月于修復牙或進行美容矯正。無氧烘箱也適用于lcp膜固化處理、pi固化、bcb等材料固化生產。
更新時間:2025-05-07
乙烯基三甲氧基硅烷涂膠機 VTMS蒸鍍機 硅烷偶聯劑氣相沉積系統
乙烯基三甲氧基硅烷涂膠機 vtms蒸鍍機 硅烷偶聯劑氣相沉積系統在材料進行表面改性,形成防水保護層,主要用于半導體、光電、生物新材料等表面處理工藝、機械乳化劑、橡膠粘結劑,化工油墨分散劑等用途。
更新時間:2025-05-07
氮氣真空儲存箱 真空防潮柜定制  全自動真空氮氣柜
氮氣真空儲存箱 真空防潮柜定制 全自動真空氮氣柜用于半導體、電路板、電子成品、芯片、電池板、電池片、電子元器件、金屬制品、厭氧產品、易氧化產品等,及機金屬加工件與各類不便于冷藏的食品,還有書籍、衣物等厭氧物品的真空存貯,以防潮、防氧化變色。適用于工廠、高等院校、科研等場所
更新時間:2025-05-07
高溫無氧烘箱520L
高溫無氧烘箱520l用于精密電子元件、銀膠固化、pi/bcb/bpo膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、晶圓退火電子陶瓷材料防氧化烘干、測試的特殊工藝要求。
更新時間:2025-05-07
HMDS烤箱,HMDS真空烘箱
hmds烤箱,hmds真空烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。
更新時間:2025-05-07
濕敏薄膜用高溫無氧烘箱
濕敏薄膜用高溫無氧烘箱感濕膜為聚酰亞胺材料,采用旋涂的方法制備感濕層
更新時間:2025-05-07
智能型無塵無氧烘箱,高溫無塵無氧化烘箱
智能型無塵無氧烘箱,高溫無塵無氧化烘箱又稱為pi固化烘箱,厭氧烘箱,高溫無氧烘箱,用于pi、bcb膠高溫固化、lcp熱處理烘烤、光刻膠固化等電子,半導體、新材料行業。
更新時間:2025-05-07
HMDS烘箱
hmds烘箱是將hmds蒸汽通過干燥的真空腔內加熱到(120-150°c),在襯底表面上hmds作為單層膜進行化學結合。
更新時間:2025-05-07
氮氣真空熱風烘箱,高溫熱風真空烤箱
氮氣真空熱風烘箱,高溫熱風真空烤箱可達低氧濃度,厭氧烘烤、低真空熱處理烘烤。適用于bcb固化、pi聚酰亞胺固化、lcp纖維熱處理、光刻膠固化。可用于半導體、新材料、電子產品、醫療衛生等行業,適用于工廠、高等院校、科研等場所。
更新時間:2025-05-07
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備
六甲基二硅氮烷(hmds)表面處理設備的工藝是勻膠襯底“增附”處理。容積大小:350*350*350/450*450*450
更新時間:2025-05-07
LCP熱處理烘箱,LCP纖維氮氣烘箱
lcp熱處理烘箱,lcp纖維氮氣烘箱是將液晶聚合物(lcp)當加熱到足夠高的溫度,lcp熔融形成液晶熔融相(經常叫做“各向異性相”)而不是各向同性熔融相。
更新時間:2025-05-07
熱風真空烘箱,真空+鼓風一體烘箱
熱風真空烘箱,真空+鼓風一體烘箱主要用于bcb固化、pi固化、其他光刻膠固化、lcp熱處理等工藝
更新時間:2025-05-07
OAP烘箱,OAP處理烘箱
oap烘箱,oap處理烘箱處理主要是為了改善親水性表面,變為疏水性,從而達到增加光刻膠粘附性的作用。
更新時間:2025-05-07
無氧烘箱,光刻膠固化烘箱
無氧烘箱,光刻膠固化烘箱用于精密電子元件、pi膠固化烘烤、bcb固化,光刻膠固化、lcp液晶聚合物熱處理、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求,
更新時間:2025-05-07
精密充氮烘箱,多箱式氮氣烘箱
精密充氮烘箱,多箱式氮氣烘箱適用于半導體烘烤工藝,五金,塑膠,玻璃制品,陶瓷,電子元器件,線路板的印刷,涂裝,點膠低溫預烤和高溫固化等。
更新時間:2025-05-07
PI無氧烘箱工藝流程
pi無氧烘箱工藝流程用于半導體/電子/新材料/新能源等行業。bcb、pi、pbo膠固化,lcp新材料、鋰電池等產品熱處理。
更新時間:2025-05-07
BCB無氧烘箱,BCB固化烤箱
bcb無氧烘箱,bcb固化烤箱用于半導體晶片、半導體封裝和mems器件的批量生產。主要用于pi固化,bcb固化,pbo固化,lcp纖維熱處理。
更新時間:2025-05-07
高溫真空無氧烤箱JS-GYZF040,雋思無氧烘箱
高溫真空無氧烤箱js-gyzf040,雋思無氧烘箱用于pi/bcb/lcp/pbo光刻膠固化、厭氧烘烤、mems生產、高溫退火等工藝,適用于半導體、電子、新材料等研發,生產。常用于科研單位,高校實驗室,工廠生產線等場所。
更新時間:2025-05-07
馬弗爐,高溫電阻爐
馬弗爐,高溫電阻爐是分析實驗室樣品干法處理,冶金實驗室做熔融實驗,熱處理部門做退火、淬火等實驗,以及其他需要高溫的場合需要的加熱輔助設備,應用廣泛。一體型馬弗爐是新研制生產的產品,該產品將爐體與控制部分做了整合,大的降低了所占空間面積。
更新時間:2025-05-07
箱式電阻爐,高溫馬弗爐
箱式電阻爐,高溫馬弗爐為周期作業式電爐,可供工礦企業、科研等單位實驗室作化學分析、物理測定和一般小型鋼件熱處理時加熱之用。
更新時間:2025-05-07
PI真空固化烤箱,水冷卻PI固化爐
pi真空固化烤箱,水冷卻pi固化爐用于光刻膠bcb,聚酰亞胺pi固化,晶圓干燥烘烤等工藝,主要用于集成電路、化合物半導體、mems微機電、tft/lcd等半導體相關行業。
更新時間:2025-05-07
PI亞胺化厭氧爐,PI真空厭氧烤箱
pi亞胺化厭氧爐,pi真空厭氧烤箱用于光刻膠bcb,聚酰亞胺pi/cpi固化,lcp纖維熱處理,晶圓干燥烘烤等工藝,主要用于集成電路、化合物半導體、mems微機電、tft/lcd等半導體相關行業。
更新時間:2025-05-07
PI固化高溫烘箱,聚酰亞胺厭氧烤箱
pi固化高溫烘箱,聚酰亞胺厭氧烤箱用于半導體/三代半導體/新材料/新能源等行業。bcb、pi、cpi、pbo膠固化,lcp新材料、鋰電池等產品熱處理。
更新時間:2025-05-07
充氮真空無氧烘箱的原理
充氮真空無氧烘箱的原理是一種利用真空厭氧固化的設備,它可以在無氧的環境下對一些特殊的膠水進行快速固化,適用于半導體芯片、電子元器件、醫療器械等域。
更新時間:2025-05-07
HMDS預處理系統在超薄鈮酸鋰材料的應用
hmds預處理系統在超薄鈮酸鋰材料的應用它成功地將產品表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。
更新時間:2025-05-07
真空熱風烘箱,高溫熱風真空烤箱
真空熱風烘箱,高溫熱風真空烤箱用于聚酰亞胺pi膠、cpi膠、bcb膠固化、低k電介質固化,lcp材料熱處理、鍵合材料預處理,fowlp扇出封裝,ito膜/鋁/銅退火,pbo膠固化等特殊工藝。
更新時間:2025-05-07
鈮酸鋰無氧化烘箱
鈮酸鋰無氧烘箱用于半導體晶片、半導體封裝和mems器件的批量生產。主要用于聚酰亞胺pi膠、cpi膠、bcb膠固化、低k電介質固化,lcp材料熱處理、鍵合材料預處理,fowlp扇出封裝,ito膜/鋁/銅退火,pbo膠固化等特殊工藝。
更新時間:2025-05-07
無氧固化爐,高溫無氧化固化烤箱
無氧固化爐,高溫無氧化固化烤箱應用于半導體晶片、半導體封裝和mems器件的批量生產。主要用于pi/cpi固化,bcb固化,pbo固化,lcp纖維熱處理。
更新時間:2025-05-07
堅膜烘箱,氮氣堅膜烘箱
堅膜烘箱,氮氣堅膜烘箱的作用是在一定的溫度下,對顯影后的襯底進行烘焙。這將使光刻膠的表面在表面張力的作用下而圓滑化,并使光刻膠層中的缺陷因光刻膠表面的圓滑化而減少,并可借此修正光刻膠圖形的邊緣輪廓。
更新時間:2025-05-07
碳化硅HMDS烘箱,SiC襯底HMDS烤箱
碳化硅hmds烘箱,sic襯底hmds烤箱成功地將硅片等襯底表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。
更新時間:2025-05-07
墨點烘箱,墨點氮氣烘箱
墨點烘箱,墨點氮氣烘箱在芯片完成過程工藝及測試后,將硅片放入物理墨點的設備,輸入用程序,對一顆非完整芯粒進行打墨點工藝,待打點完成后,將硅片放入烘箱進行墨點烘干操作。
更新時間:2025-05-07
HMDS增粘劑烘箱,HMDS涂膠機
hmds增粘劑烘箱,hmds涂膠機即hmds(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布,涂膠工藝的配置機臺。該設備結合了有效的真空烘烤和蒸汽氣相涂布應用方法。
更新時間:2025-05-07
烘氮氣烘箱,硬烘潔凈烘箱@推薦2023測試報告
烘可在熱烘板或氮氣烘箱中進行,本課題采用的熱風烘箱為雋思氮氣潔凈烘箱,由于在鼓風烘箱中對流烘烤將會使烘進行的更加均勻,所以在鼓風箱中烘的效果將會更理想。
更新時間:2025-05-07
桌上型HMDS烘箱,小型HMDS真空烤箱@推薦2023標準配置
js-hmds90烘箱采用真空蒸鍍的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高溫條件下,達到真空狀態后開始涂布工藝,涂布完成后烘箱內部充入n2,達到常壓后方可開門。
更新時間:2025-05-07
HMDS增粘劑烘箱,HMDS涂膠機@推薦2023產品選型
hmds增粘劑烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布,涂膠工藝的配置機臺。該設備結合了有效的真空烘烤和蒸汽氣相涂布應用方法。在使用同一腔室過程的過程,為脫水和蒸汽灌注創造了一個加熱的真空環境,大大降低了晶片再水化或污染的風險。同時,提高了安全性,具有更好的安全保障。
更新時間:2025-05-07
無氧固化爐,高溫無氧化固化烤箱@推薦2023參數規格
箱體結構: 內箱采用sus304/316l不銹鋼制作,以全周氬弧焊無縫處理; 外箱采用優質不銹鋼或冷軋板靜電噴塑處理; 外箱保溫材質用高超細陶瓷纖維保溫,六面保溫斷熱,達到降低機臺表面溫度的目的。
更新時間:2025-05-07
雙腔無氧烤箱,兩箱無氧烘箱@2023已更新推薦
該工業烘烤箱是一種新型可營造無氧潔凈恒溫環境的電熱鼓風烘箱箱,在加溫工作的同時充入氮氣,適用高溫易氧化產品的烘烤加熱。
更新時間:2025-05-07
BCB無氧烘箱,BCB固化烤箱@2023動態已更新《新品/推薦 》
bcb作為一類高性能聚合物,以它特有的性質,將會被越來越多地使用。bcb是具有優良的熱穩定性、化學穩定性、電絕緣性和機械強度的高性能材料。在現代高技術域有非常重要的應用。例如在微電子制造中,用作各類器件鈍化防護和層間介電等。
更新時間:2025-05-07

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