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干燥箱/烘箱產(chǎn)品及廠家

高溫厭氧烘箱,厭氧固化烤箱
高溫厭氧烘箱,厭氧固化烤箱 厭氧烤箱將封閉內(nèi)腔持續(xù)加熱到預(yù)設(shè)溫度后,進(jìn)入保溫加熱控制狀態(tài),在保溫加熱控制狀態(tài)中采用間斷式加熱方式,使得封閉內(nèi)腔中的溫度能夠保持穩(wěn)定的溫度,電子元件在均勻的溫度下進(jìn)行固化,提高電子元件的質(zhì)量;也可以滿足大容量烤箱的生產(chǎn)要求,提高了生產(chǎn)效率。
更新時(shí)間:2025-05-07
真空無氧烘箱,無氧化真空烤箱
真空無氧烘箱,無氧化真空烤箱將高純度氮?dú)獬淙肟鞠鋬?nèi)部,從而置換腔內(nèi)空氣降低氧濃度,來防止部分物料在高溫環(huán)境下加速氧化的現(xiàn)象。烤箱抽取真空后,充入氮?dú)猓俪槿≌婵眨啻窝h(huán)后可以確保烤箱的工作室處于無氧的狀態(tài),避免活性較強(qiáng)的物料在高溫有氧的環(huán)境下被氧化而損壞。
更新時(shí)間:2025-05-07
無氧烘箱,20ppm無氧烘箱
無氧烘箱,20ppm無氧烘箱應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求,形成高溫、低氧(無氧)、潔凈環(huán)境,特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、ic封裝、石英玻璃、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業(yè)的無氧化干燥烘烤工藝要求.
更新時(shí)間:2025-05-07
充氮厭氧烘箱,450度厭氧固化爐
充氮厭氧烘箱,450度厭氧固化爐應(yīng)用于精密電子元件、聚酰亞胺層(pi)固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求,模擬線性升降溫環(huán)境,特別適合半導(dǎo)體制造、mems制作、工藝cob封裝、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業(yè)的無氧化干燥烘烤工藝要求。
更新時(shí)間:2025-05-07
充氮真空烘箱,快速降溫真空烤箱
充氮真空烘箱,快速降溫真空烤箱用于鍵合材料的真空預(yù)處理 、bcb固化、ito膜退火,pi膠固化等工藝。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子產(chǎn)品、醫(yī)療衛(wèi)生等行業(yè),適用于工廠、高等院校、科研等場所。
更新時(shí)間:2025-05-07
有降溫功能真空烘箱,300度可降溫真空烤箱
有降溫功能真空烘箱,300度可降溫真空烤箱用于鍵合預(yù)處理,晶圓,芯片,電容,電池,封裝,光刻膠固化,pi固化等
更新時(shí)間:2025-05-07
HMDS黏附機(jī)  光刻膠HMDS烘箱  HMDS疏水處理烘箱
hmds黏附機(jī) 光刻膠hmds烘箱 hmds疏水處理烘箱應(yīng)用多晶硅,石英,太陽能電池片、金屬、貴金屬、藍(lán)寶石、sic(碳化硅)、磷化銦、gan(氮化鎵)、zno(氧化鋅)、gao(氧化鎵)、金剛石等第三代半導(dǎo)體材料。
更新時(shí)間:2025-05-07
HMDS烘箱  圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機(jī)
hmds烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機(jī)使用hmds(六甲基二硅氮烷)對晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效的涂布,以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉(zhuǎn),形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負(fù)圖像。
更新時(shí)間:2025-05-07
HDMS烘箱  HDMS真空烘箱  智能型HDMS預(yù)處理烘箱
hdms烘箱 hdms真空烘箱 智能型hdms預(yù)處理烘箱保護(hù)裝置:緊急停止,hmds藥液泄漏報(bào)&警提示,hmds低液位報(bào)&警,超溫保護(hù),漏電保護(hù),過熱保護(hù)等
更新時(shí)間:2025-05-07
程控真空干燥箱 可程式真空烘箱 真空烤箱
程控真空干燥箱 可程式真空烘箱 真空烤箱在實(shí)驗(yàn)室、制藥、電子等行業(yè),干燥工藝的效率與精度直接影響實(shí)驗(yàn)結(jié)果與產(chǎn)品質(zhì)量。
更新時(shí)間:2025-05-07
紫外固化烘箱 真空紫外烘箱 UV固化真空烤箱
紫外固化烘箱 真空紫外烘箱 uv固化真空烤箱主要應(yīng)用于uv膠水、uv 油墨、uv光油、uv 油漆、uv 涂料、薄膜等 uv 光感材料的固化,3d打印固化,新型材料改性、高分子化學(xué)、半導(dǎo)體材料光固化,以及高等院校和科研機(jī)構(gòu)的實(shí)驗(yàn)室研究。
更新時(shí)間:2025-05-07
潔凈無氧烤箱 充氮潔凈烤箱 高溫固化烤箱
潔凈無氧烤箱 充氮潔凈烤箱 高溫固化烤箱支持mes等自動化通信端口, 內(nèi)置計(jì)時(shí)報(bào)警功能, 氧含量實(shí)時(shí)監(jiān)測(氧化鋯分析儀
更新時(shí)間:2025-05-07
高溫低濕烘箱   超低濕高溫烤箱
高溫低濕烘箱 超低濕高溫烤箱應(yīng)用場景?:led燈珠、ic芯片等濕敏元器件需在40~90℃、濕度≤5%rh的烘箱中預(yù)烘烤,避免回流焊時(shí)出現(xiàn)“爆米花”效應(yīng)?
更新時(shí)間:2025-05-07
NH3氨氣烘箱 氨氣真空烘烤系統(tǒng) 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐
nh3氨氣烘箱 氨氣真空烘烤系統(tǒng) 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐使得光刻膠在半導(dǎo)體、光學(xué)器件及生物芯片等制造領(lǐng)域能夠更地適應(yīng)圖形轉(zhuǎn)移的需求,提升產(chǎn)品的制造質(zhì)量和精度。
更新時(shí)間:2025-05-07
PETG/IPN/TPU膜材料烘箱  牙膠片防氧化烘箱 隱形正畸膜熱處理烤箱
petg/ipn/tpu膜材料烘箱 牙膠片防氧化烘箱 隱形正畸膜熱處理烤箱牙科膜片是一種常用的牙種材料,月于修復(fù)牙或進(jìn)行美容矯正。無氧烘箱也適用于lcp膜固化處理、pi固化、bcb等材料固化生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-05-07
乙烯基三甲氧基硅烷涂膠機(jī) VTMS蒸鍍機(jī) 硅烷偶聯(lián)劑氣相沉積系統(tǒng)
乙烯基三甲氧基硅烷涂膠機(jī) vtms蒸鍍機(jī) 硅烷偶聯(lián)劑氣相沉積系統(tǒng)在材料進(jìn)行表面改性,形成防水保護(hù)層,主要用于半導(dǎo)體、光電、生物新材料等表面處理工藝、機(jī)械乳化劑、橡膠粘結(jié)劑,化工油墨分散劑等用途。
更新時(shí)間:2025-05-07
高溫?zé)o氧烘箱520L
高溫?zé)o氧烘箱520l用于精密電子元件、銀膠固化、pi/bcb/bpo膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、晶圓退火電子陶瓷材料防氧化烘干、測試的特殊工藝要求。
更新時(shí)間:2025-05-07
HMDS烤箱,HMDS真空烘箱
hmds烤箱,hmds真空烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時(shí)間:2025-05-07
濕敏薄膜用高溫?zé)o氧烘箱
濕敏薄膜用高溫?zé)o氧烘箱感濕膜為聚酰亞胺材料,采用旋涂的方法制備感濕層
更新時(shí)間:2025-05-07
智能型無塵無氧烘箱,高溫?zé)o塵無氧化烘箱
智能型無塵無氧烘箱,高溫?zé)o塵無氧化烘箱又稱為pi固化烘箱,厭氧烘箱,高溫?zé)o氧烘箱,用于pi、bcb膠高溫固化、lcp熱處理烘烤、光刻膠固化等電子,半導(dǎo)體、新材料行業(yè)。
更新時(shí)間:2025-05-07
HMDS烘箱
hmds烘箱是將hmds蒸汽通過干燥的真空腔內(nèi)加熱到(120-150°c),在襯底表面上hmds作為單層膜進(jìn)行化學(xué)結(jié)合。
更新時(shí)間:2025-05-07
氮?dú)庹婵諢犸L(fēng)烘箱,高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱
氮?dú)庹婵諢犸L(fēng)烘箱,高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱可達(dá)低氧濃度,厭氧烘烤、低真空熱處理烘烤。適用于bcb固化、pi聚酰亞胺固化、lcp纖維熱處理、光刻膠固化。可用于半導(dǎo)體、新材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)療衛(wèi)生等行業(yè),適用于工廠、高等院校、科研等場所。
更新時(shí)間:2025-05-07
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設(shè)備
六甲基二硅氮烷(hmds)表面處理設(shè)備的工藝是勻膠襯底“增附”處理。容積大小:350*350*350/450*450*450
更新時(shí)間:2025-05-07
熱風(fēng)真空烘箱,真空+鼓風(fēng)一體烘箱
熱風(fēng)真空烘箱,真空+鼓風(fēng)一體烘箱主要用于bcb固化、pi固化、其他光刻膠固化、lcp熱處理等工藝
更新時(shí)間:2025-05-07
OAP烘箱,OAP處理烘箱
oap烘箱,oap處理烘箱處理主要是為了改善親水性表面,變?yōu)槭杷裕瑥亩_(dá)到增加光刻膠粘附性的作用。
更新時(shí)間:2025-05-07
無氧烘箱,光刻膠固化烘箱
無氧烘箱,光刻膠固化烘箱用于精密電子元件、pi膠固化烘烤、bcb固化,光刻膠固化、lcp液晶聚合物熱處理、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求,
更新時(shí)間:2025-05-07
PI無氧烘箱工藝流程
pi無氧烘箱工藝流程用于半導(dǎo)體/電子/新材料/新能源等行業(yè)。bcb、pi、pbo膠固化,lcp新材料、鋰電池等產(chǎn)品熱處理。
更新時(shí)間:2025-05-07
BCB無氧烘箱,BCB固化烤箱
bcb無氧烘箱,bcb固化烤箱用于半導(dǎo)體晶片、半導(dǎo)體封裝和mems器件的批量生產(chǎn)。主要用于pi固化,bcb固化,pbo固化,lcp纖維熱處理。
更新時(shí)間:2025-05-07
高溫真空無氧烤箱JS-GYZF040,雋思無氧烘箱
高溫真空無氧烤箱js-gyzf040,雋思無氧烘箱用于pi/bcb/lcp/pbo光刻膠固化、厭氧烘烤、mems生產(chǎn)、高溫退火等工藝,適用于半導(dǎo)體、電子、新材料等研發(fā),生產(chǎn)。常用于科研單位,高校實(shí)驗(yàn)室,工廠生產(chǎn)線等場所。
更新時(shí)間:2025-05-07
馬弗爐,高溫電阻爐
馬弗爐,高溫電阻爐是分析實(shí)驗(yàn)室樣品干法處理,冶金實(shí)驗(yàn)室做熔融實(shí)驗(yàn),熱處理部門做退火、淬火等實(shí)驗(yàn),以及其他需要高溫的場合需要的加熱輔助設(shè)備,應(yīng)用廣泛。一體型馬弗爐是新研制生產(chǎn)的產(chǎn)品,該產(chǎn)品將爐體與控制部分做了整合,大的降低了所占空間面積。
更新時(shí)間:2025-05-07
箱式電阻爐,高溫馬弗爐
箱式電阻爐,高溫馬弗爐為周期作業(yè)式電爐,可供工礦企業(yè)、科研等單位實(shí)驗(yàn)室作化學(xué)分析、物理測定和一般小型鋼件熱處理時(shí)加熱之用。
更新時(shí)間:2025-05-07
PI真空固化烤箱,水冷卻PI固化爐
pi真空固化烤箱,水冷卻pi固化爐用于光刻膠bcb,聚酰亞胺pi固化,晶圓干燥烘烤等工藝,主要用于集成電路、化合物半導(dǎo)體、mems微機(jī)電、tft/lcd等半導(dǎo)體相關(guān)行業(yè)。
更新時(shí)間:2025-05-07
PI亞胺化厭氧爐,PI真空厭氧烤箱
pi亞胺化厭氧爐,pi真空厭氧烤箱用于光刻膠bcb,聚酰亞胺pi/cpi固化,lcp纖維熱處理,晶圓干燥烘烤等工藝,主要用于集成電路、化合物半導(dǎo)體、mems微機(jī)電、tft/lcd等半導(dǎo)體相關(guān)行業(yè)。
更新時(shí)間:2025-05-07
PI固化高溫烘箱,聚酰亞胺厭氧烤箱
pi固化高溫烘箱,聚酰亞胺厭氧烤箱用于半導(dǎo)體/三代半導(dǎo)體/新材料/新能源等行業(yè)。bcb、pi、cpi、pbo膠固化,lcp新材料、鋰電池等產(chǎn)品熱處理。
更新時(shí)間:2025-05-07
充氮真空無氧烘箱的原理
充氮真空無氧烘箱的原理是一種利用真空厭氧固化的設(shè)備,它可以在無氧的環(huán)境下對一些特殊的膠水進(jìn)行快速固化,適用于半導(dǎo)體芯片、電子元器件、醫(yī)療器械等域。
更新時(shí)間:2025-05-07
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)在超薄鈮酸鋰材料的應(yīng)用
hmds預(yù)處理系統(tǒng)在超薄鈮酸鋰材料的應(yīng)用它成功地將產(chǎn)品表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時(shí)間:2025-05-07
真空熱風(fēng)烘箱,高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱
真空熱風(fēng)烘箱,高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱用于聚酰亞胺pi膠、cpi膠、bcb膠固化、低k電介質(zhì)固化,lcp材料熱處理、鍵合材料預(yù)處理,fowlp扇出封裝,ito膜/鋁/銅退火,pbo膠固化等特殊工藝。
更新時(shí)間:2025-05-07
鈮酸鋰無氧化烘箱
鈮酸鋰無氧烘箱用于半導(dǎo)體晶片、半導(dǎo)體封裝和mems器件的批量生產(chǎn)。主要用于聚酰亞胺pi膠、cpi膠、bcb膠固化、低k電介質(zhì)固化,lcp材料熱處理、鍵合材料預(yù)處理,fowlp扇出封裝,ito膜/鋁/銅退火,pbo膠固化等特殊工藝。
更新時(shí)間:2025-05-07
無氧固化爐,高溫?zé)o氧化固化烤箱
無氧固化爐,高溫?zé)o氧化固化烤箱應(yīng)用于半導(dǎo)體晶片、半導(dǎo)體封裝和mems器件的批量生產(chǎn)。主要用于pi/cpi固化,bcb固化,pbo固化,lcp纖維熱處理。
更新時(shí)間:2025-05-07
堅(jiān)膜烘箱,氮?dú)鈭?jiān)膜烘箱
堅(jiān)膜烘箱,氮?dú)鈭?jiān)膜烘箱的作用是在一定的溫度下,對顯影后的襯底進(jìn)行烘焙。這將使光刻膠的表面在表面張力的作用下而圓滑化,并使光刻膠層中的缺陷因光刻膠表面的圓滑化而減少,并可借此修正光刻膠圖形的邊緣輪廓。
更新時(shí)間:2025-05-07
碳化硅HMDS烘箱,SiC襯底HMDS烤箱
碳化硅hmds烘箱,sic襯底hmds烤箱成功地將硅片等襯底表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時(shí)間:2025-05-07
HMDS增粘劑烘箱,HMDS涂膠機(jī)
hmds增粘劑烘箱,hmds涂膠機(jī)即hmds(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布,涂膠工藝的配置機(jī)臺。該設(shè)備結(jié)合了有效的真空烘烤和蒸汽氣相涂布應(yīng)用方法。
更新時(shí)間:2025-05-07
烘氮?dú)夂嫦洌埠鏉崈艉嫦銨推薦2023測試報(bào)告
烘可在熱烘板或氮?dú)夂嫦渲羞M(jìn)行,本課題采用的熱風(fēng)烘箱為雋思氮?dú)鉂崈艉嫦洌捎谠诠娘L(fēng)烘箱中對流烘烤將會使烘進(jìn)行的更加均勻,所以在鼓風(fēng)箱中烘的效果將會更理想。
更新時(shí)間:2025-05-07
桌上型HMDS烘箱,小型HMDS真空烤箱@推薦2023標(biāo)準(zhǔn)配置
js-hmds90烘箱采用真空蒸鍍的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高溫條件下,達(dá)到真空狀態(tài)后開始涂布工藝,涂布完成后烘箱內(nèi)部充入n2,達(dá)到常壓后方可開門。
更新時(shí)間:2025-05-07
HMDS增粘劑烘箱,HMDS涂膠機(jī)@推薦2023產(chǎn)品選型
hmds增粘劑烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布,涂膠工藝的配置機(jī)臺。該設(shè)備結(jié)合了有效的真空烘烤和蒸汽氣相涂布應(yīng)用方法。在使用同一腔室過程的過程,為脫水和蒸汽灌注創(chuàng)造了一個(gè)加熱的真空環(huán)境,大大降低了晶片再水化或污染的風(fēng)險(xiǎn)。同時(shí),提高了安全性,具有更好的安全保障。
更新時(shí)間:2025-05-07
無氧固化爐,高溫?zé)o氧化固化烤箱@推薦2023參數(shù)規(guī)格
箱體結(jié)構(gòu): 內(nèi)箱采用sus304/316l不銹鋼制作,以全周氬弧焊無縫處理; 外箱采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼或冷軋板靜電噴塑處理; 外箱保溫材質(zhì)用高超細(xì)陶瓷纖維保溫,六面保溫?cái)酂?達(dá)到降低機(jī)臺表面溫度的目的。
更新時(shí)間:2025-05-07

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